安徽凌光红外发布 LUXET VERITAS 二合一显微镜，将 EMMI 微光检测与 OBIRCH 激光诱导电阻变化功能深度集成，厂商称填补国内市场空白并覆盖半导体全链条的失效分析需求。设备搭载深度制冷近红外相机与自研1.35倍物镜，EMMI 可定位纳安级微弱漏电并识别典型电性失效，OBIRCH 采用1300nm/500mW激光、实现 pA 级电流放大测量以排查金属线和通孔等隐蔽缺陷。
6 月 29 日消息，据科大硅谷公众号昨日消息，安徽凌光红外科技有限公司近日发布了 LUXET VERITAS 微光显微镜及激光诱导电阻变化（EMMI+OBIRCH）二合一显微镜，填补国内市场空白。
IT之家获悉，LUXET VERITAS 二合一显微镜深度融合 EMMI 微光检测与 OBIRCH 激光诱导电阻变化两大主流失效分析功能，一机两用、高度集成，全面覆盖半导体全链条检测需求。
据介绍，当前全球半导体产业步入先进制程时代，芯片内部结构愈发精密复杂，电性失效分析成为芯片研发迭代、良率提升与品质保障的核心环节。
在核心硬件与性能参数上，设备搭载深度制冷近红外相机与大口径自研 1.35 倍物镜，EMMI 模块可精准定位纳安级微弱漏电，高效识别 PN 结击穿、闩锁效应、栅极氧化层漏电、多晶硅缺陷等典型失效问题；OBIRCH 模块采用 1300nm 标准激光波段、500mW 额定功率，可实现 pA 级超高精度电流放大测量，精准排查金属线路、导通孔、接触孔阻值异常等隐蔽缺陷。