SK 海力士最新计划:2030-2031 年 DRAM 晶圆产能实现翻倍,月产量达百万片

报道称,SK海力士已向主要供应商说明一项到2030–2031年将DRAM晶圆投片产能提高到接近目前两倍的扩产计划,目标把月投片从约55万片提升至约100万片。扩产重点在龙仁半导体集群——将把第一座晶圆厂划分为六个洁净室,自2027年2月起分阶段每隔六个月启用一个洁净室,每次新增约6万片月产能,至2030年上半年可新增约36万片;另有清州M15X厂今年下半年投产、明年产能将从4万片增至约8万片。NAND方面主要聚焦堆叠层数等技术升级。文章同时指出供应商对这一激进路线图持谨慎态度,因历史上SK海力士曾因调整导致设备订单大幅变动,若设备交付或市场需求不及预期,扩产节奏可能受影响;该计划也与SK集团高层提出五年内整体产能翻倍的目标相呼应。

6 月 5 日消息,据韩媒 The Elec 于 5 日(今天)下午援引知情人士消息称,SK 海力士已向主要供应商说明最新的扩产计划,目标是在 2030 至 2031 年把 DRAM 晶圆投片产能提高到接近目前两倍

这项扩产路线图在 2026 台北国际电脑展之前就已制定完成。展会期间,英伟达 CEO 黄仁勋曾在一片 SK 海力士 DRAM 晶圆上写下“请多生产”,也从侧面凸显 AI 存储产品需求正在快速升温。

多名行业人士透露,过去两个月,SK 海力士采购团队以及负责龙仁半导体集群的人员,已陆续向主要供应商说明到 2030 年扩大晶圆投片产能的计划。

按照计划,SK 海力士希望到 2030 年把 DRAM 晶圆月投片产能从目前约 55 万片提高到约 100 万片。现有产能中包括无锡工厂约 20 万片月产量,新增产能预计主要来自龙仁半导体集群。

SK 海力士计划把龙仁第一座晶圆厂划分为六个洁净室,并从 2027 年 2 月起向第一个洁净室搬入设备。第一阶段设备安装完成后,龙仁工厂将新增 6 万片月产能;此后,SK 海力士计划每隔六个月启用一个新增洁净室,每次再增加 6 万片月产能。若按现有时间表推进,仅龙仁第一座晶圆厂到 2030 年上半年就可新增 36 万片 DRAM 月产能。

清州 M15X 晶圆厂也在扩建。M15X 计划今年下半年投产,初期月产能为 4 万片晶圆,明年预计提升至约 8 万片。若龙仁新增 36 万片产能也按期释放,SK 海力士 DRAM 晶圆月投片总产能到 2030 至 2031 年有望达到约 100 万片

NAND 闪存方面,SK 海力士被认为主要聚焦技术升级,包括提高堆叠层数。一名半导体设备行业人士表示:“可以理解为,SK 海力士是在要求供应商为快速、大规模扩产做好准备。”

据IT之家了解,这项计划也与 SK 集团董事长崔泰源最近的表态相呼应:全速在五年内将整体晶圆产能提高一倍

不过,供应商仍在谨慎观望这份激进路线图能否如期落地。2022 年,SK 海力士曾向供应商提供下一年度资本开支指引,但同年秋季又大幅削减设备订单。部分供应商已经依据指引采购零部件,后来承受了明显现金流压力。业内人士也指出,如果任何一类设备交付延迟,每六个月填满一个洁净室的节奏都可能被打乱。

一名供应商人士表示:“短期来看,投资增加已经很明确,对设备和材料供应商是重大利好。但整份路线图最终能否完成,还是要看市场需求能不能支撑。”

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