比利时校际微电子研究中心 imec 于当地时间 3 月 18 日接收其长期合作伙伴 ASML 交付的一台 EXE:5200 High NA 极紫外光（EUV）光刻系统。该设备将为 imec 总部鲁汶的亚 2nm 中试线项目 NanoIC 提供关键支持，扩展其研发与量产级验证能力。此前 imec 已与 ASML 在荷兰费尔德霍芬共建 High NA EUV 联合实验室，imec 预计此台设备将在 2026 年第 4 季度完成全面认证。
3 月 19 日消息，比利时校际微电子研究中心 imec 当地时间 18 日宣布，其长期合作伙伴 ASML 已向其交付了一台高数值孔径 (High NA) 极紫外光 (EUV) 光刻系统，这款 EXE:5200 将在 imec 总部比利时鲁汶为亚 2nm 中试线项目 NanoIC 提供关键支持。
▲ 图源：imec
imec 此前已在 ASML 总部所在地荷兰费尔德霍芬的 ASML-imec 联合 High NA EUV 光刻实验室与 ASML 一道携手其它业界伙伴共同开拓最先进的半导体图案化技术，而新光刻机的到来将为 imec 解锁更大的研发自由与量产级能力。
imec 预计此次交付的 EXE:5200 High NA EUV 光刻系统将于 2026 年第 4 季度完成全面认证。