可选当前最先进工艺:消息称三星电子正开发 4~2nm 定制 HBM 基础裸片解决方案

三星电子计划在HBM4后的定制HBM内存上延续制程优势策略,提供从4nm到2nm的基础裸片解决方案,以应对高阶AI XPU芯片的算力提升挑战。

1 月 21 日消息,韩媒 ZDNET Korea 今日报道称,三星电子将在 HBM4 后的定制 HBM 内存上延续“制程优势”策略,提供从 4nm 直到当前最先进的 2nm 的一系列基础裸片 (Base Die) 解决方案。

**IT之家注:**台积电则计划为定制 HBM 基础裸片导入 N3P 制程。

▲ 三星电子代表在 IEEE ISSCC 2025 会议上的演讲在设想的方案中内存控制器和定制逻辑单元位于基础裸片上 搭配 HBM 内存的高阶 AI XPU 芯片正面临单体芯片理论最大面积(858mm² 的光罩尺寸)限制算力进一步提升的情况,化解这一问题的方式除了多芯片的物理 / 通信互联外还包括将部分电路卸载到邻近的 HBM 基础裸片上

由于 HBM 内存进入 HBM4 后,HBM Base Die 也采用逻辑半导体制程,因此可承载原应由 XPU 主体负担的电路功能。而 HBM Base Die 工艺越先进,其就越能容纳逻辑电路、能效越出色

内部人士表示,三星电子的定制 HBM 基础裸片解决方案由系统 LSI 业务新设立的定制 SoC 团队负责。

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